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- 技术指标
- 应用案例
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产品型号:E-Beam-UHV 产品简介:该电子束蒸发系统可以在超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备,线性电子束枪可实现多种材料的蒸发,设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。 
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晶圆尺寸 4inch-8inch 极限真空 优于1×10-9mbar 温控 RT-800℃ 电子束枪 超高真空线性运动电子束枪,可选配坩埚数量和容量 (标配,10KW,6×15cc) 晶圆清洗 可选配考夫曼离子源实现晶圆清洗 清洗均匀性 例:4inch晶圆优于±3% 控制系统 PC+PLC,全自动操作与安全互锁 样品台 180度倾斜,360度旋转,可选升降与偏压 膜厚测量 膜厚仪,可伸缩 占地面积 3m L* 2m W * 2m H 可选 低温泵、自动传输、工艺菜单等 六大特色 懂你所需企业/高校性能之选 
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测试案列随着超导量子计算的发展,高校实验室和企业对于超导量子电路的核心器件——约瑟夫森结有着极高的制备要求。该设备可专门用于制备Al基、Nb基等各类约瑟夫森结,以下是制备的约瑟夫森结的光学照像。  约瑟夫森结的光学图像 温度测试下图是加热台温度测试图,加热台可以实现最高800摄氏度的晶圆加热,并且电子束蒸发过程中温升较低,满足不同材料的沉积需求。  
电子束蒸发系统
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